15 2020/05

1400℃坩埚电阻炉

这款坩埚电阻箱式炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，60分钟内能达到13...

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15 2020/05

1400℃立式管式炉

1400℃立式管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实...

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15 2020/05

1200℃立式管式炉

1200℃立式开启式管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情...

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15 2020/05

1600℃箱式氢气炉

这款1600℃箱式氢气炉以质钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和50段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速...

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15 2020/05

1400℃箱式氢气炉

这款1400℃箱式氢气炉以质钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和50段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速...

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15 2020/05

1200℃箱式氢气炉

这款1100℃箱式氢气炉以电阻丝（瑞典 Canthal A1）为加热元件，采用双层壳体结构和50段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡...

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15 2020/05

1100℃箱式氢气炉

这款1100℃箱式氢气炉以电阻丝（瑞典 Canthal A1）为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡...

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15 2020/05

1100℃箱式气氛炉

这款箱式气氛炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快...

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15 2020/05

1800℃箱式气氛炉

这款1800℃气氛箱式炉以进口硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本进口氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风...

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15 2020/05

1700℃箱式气氛炉

这款1700℃气氛箱式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快...

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15 2020/05

1600℃箱式气氛炉

这款1600℃气氛箱式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快...

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15 2020/05

1400℃箱式气氛炉

这款1400℃气氛箱式炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快...

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15 2020/05

1200℃箱式气氛炉

这款气氛箱式炉以高电阻质合金丝0Cr27Al7Mo2为加热元件，采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有...

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15 2020/05

1700℃氢气管式炉

这款1700℃氢气管式炉以质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度...

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15 2020/05

1600℃氢气管式炉

这款1600℃氢气管式炉以质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度...

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15 2020/05

1400℃氢气管式炉

这款1400℃氢气管式炉以质硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度...

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15 2020/05

1200℃滑动PECVD

PECVD系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、射频电源、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。 主要功能和特点： 1、（可选配）高真空系统由...

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15 2020/05

1200℃PECVD管式炉

PECVD系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、射频电源、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。 主要功能和特点： 1、（可选配）高真空系统由...

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15 2020/05

1200℃PECVD回转炉

PECVD系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、射频电源、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。 主要功能和特点： 1、高真空系统由双级旋片真...

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15 2020/05

1200℃PECVD管式炉

PECVD系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、射频电源、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。 主要功能和特点： 1、高真空系统由双级旋片真...

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