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PECVD408-12小型管式PECVD系统：小型PECVD系统管式炉

文章出处：洛阳西格玛智能电阻炉人气：0 发表时间：2024-04-27

PECVD408-12小型管式PECVD系统是一款小型PECVD系统的管式炉。小型管式PECVD系统由真空管式炉、射频电源、供气系统、真空系统组成。最高温度可以达到1200度，采用30段程序温控仪表，K型热电偶，炉膛为高纯氧化铝陶瓷纤维,此设备可用于生长纳米线或用CVD方法制备各种薄膜。

二、产品特点

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

二、技术参数

设备型号	PECVD408-12
管式炉	控温范围	室温-1200℃
	工作温度	≤1100℃
	加热区长度	400mm
	石英管	直径 80mm，长 1400mm (管径可选 50， 60 ，100)
	控温精度	＜1000 ±0.1℃ ； ≥1000±1℃
	恒温波动	±1℃（测试点为1000℃）
	升温速度	推荐1000度以下≤10℃/min，最快升温速度≤30℃/min
	降温速度	700℃以上≤10℃/min
	炉表温度	炉体表面温度小于室温+10（测量点为1000℃）
	测温元件	K型热电偶
	控温模式	模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
	电压功率	220V 3KW
供气系统	气路通道	4路
	气路流量控制	质子流量控制器（七星流量计）
	控制精度	±1.5%F.S
	重复精度	±0.2%F.S
	流量范围	1-500 SCCM
	机械压力表	一块机械压力表在面板，和混气灌连接量程：-0.1～0.15 Mpa



真空系统方案一（低真空：机械泵）	电源	220V
	极限真空度	5X10-1 Pa
	抽气速率	2升/每秒
	真空挡板阀	KF25
	型号	VRD-8
	电机功率	0.4KW
真空系统方案二（高真空：机械泵+分子泵机组）	型号	GZK-16-600
	电源	AC100-240 50/60HZ
	功率	1KW
	重量	25KG
	极限压强	1.0*10-4Pa
	进、排气接口	KF40
	冷水机最大流量	10L/MIN
	真空计	复合真空计
	真空控制精度	± 1%
	真空计测量范围	1.0x10 - 1.0x10-5pa
电源（等离子体发生器）	功率输出范围	0-500W
	功率稳定度	≤±5W
	工作频率	射频：13.56MHZ±0.005%
	匹配方式	自动
	冷却方式	风冷
	噪声	<50dB







安全	工作环境	RT±5-40℃
	使用保障	开门断电超温报警漏电保护过温保护




	管式炉	一台
出厂清单	真空系统	一套
	供气系统	一套
	射频电源	一套
	高温手套	卡斯顿一双
	炉勾	一把
	气管	一根
	设备说明书	一份
	仪表说明书	一份
	保修卡	一份
选购品	移动炉架	不锈钢
选购品	触摸屏智能仪表	50段编程，可实现与计算机连接。通过专用的计算机控制系统来完成与单台或多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。

注：管径可选：50/60/80/100/120/150/200/300 mm ,

温区可以做双温区，三温区等多温区，

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二、产品特点

二、技术参数

故障维修

操作说明

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