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1200℃双管滑道式CVD系统

文章出处:洛阳西格玛智能电阻炉 人气:0 发表时间:2024-03-08

1200℃双管滑道式CVD系统

1200℃双管滑道式CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。炉底部装有滑轨,可通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。该cvd高温炉广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品名称:

1200℃双管滑道式CVD系统

第一部分: 1200度滑道双管双温区管式炉

产品型号:

1200度滑道管式炉

炉管尺寸:

双石英管

外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm

内管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm

加热区:220+220mm

供电电源:230V,单相,50HZ

功率:4.0 kw

加热元件:电阻丝

升温速率:0-20°C/min

热电偶: K型

第二部分: 水冷系统

法兰:

1.水冷机 CW-3000

2.水冷,密封双管的真空法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.

第三部分  真空系统


真空系统

1. 防腐数显真空计

2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口,波纹管和箱体

第四部分  混气系统

质量流量计量程:

MFC 1: 0~10 sccm

MFC 2: 0~200 sccm

MFC 3: 0~10 slm

MFC 3: 0~10 slm



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此文关键词: 1200℃双管滑道式CVD系统

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