1200℃双管滑道式CVD系统
1200℃双管滑道式CVD系统
该1200℃双管滑道式CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。炉底部装有滑轨,可通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。该cvd高温炉广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
产品名称:
1200℃双管滑道式CVD系统
第一部分: 1200度滑道双管双温区管式炉
产品型号:
1200度滑道管式炉
炉管尺寸:
双石英管
外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm
内管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm
加热区:220+220mm
供电电源:230V,单相,50HZ
功率:4.0 kw
加热元件:电阻丝
升温速率:0-20°C/min
热电偶: K型
第二部分: 水冷系统
法兰:
1.水冷机 CW-3000
2.水冷,密封双管的真空法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.
第三部分 真空系统
真空系统
1. 防腐数显真空计
2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口,波纹管和箱体
第四部分 混气系统
质量流量计量程:
MFC 1: 0~10 sccm
MFC 2: 0~200 sccm
MFC 3: 0~10 slm
MFC 3: 0~10 slm
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