钼丝金属屏真空还原炉
钼丝金属屏真空还原炉技术方案
一、简介
钼丝金属屏真空还原炉是一种以钼丝为发热元件、多层金属屏为隔热元件的内热式真空电阻炉,广泛应用于高纯材料、硬质合金、钨钼制品、半导体材料等领域,在高温真空或还原气氛下进行还原、烧结、退火等热处理工艺。
该设备结构紧凑、热惯性小、升温速度快、温度均匀性好,适用于对材料纯度、组织结构和性能要求极高的工艺过程。
二、用途
金属氧化物还原(如MoO3→MoO3→Mo)
高纯金属粉末制备
硬质合金、钨钼材料烧结
半导体材料、稀土材料热处理
石英材料脱羟处理
三、工作原理
钼丝金属屏真空还原炉采用电阻加热原理,在高真空或还原气氛下,电流通过钼丝产生热量,热量以热辐射形式传递给物料,实现高温热处理。
反应示例:
MoO₃ + H₂ → MoO₂ + H₂O↑(一段还原) MoO₂ + 2H₂ → Mo + 2H₂O↑(二段还原)四、主要技术参数(典型型号示例)
参数 | 指标 |
---|---|
额定功率 | 25~70kW |
最高温度 | 1600℃ |
工作区尺寸 | Φ150×200mm / Φ400×500mm |
极限真空度 | ≤6.67×10⁻³Pa |
压升率 | ≤0.2Pa/h |
温度均匀性 | ±5℃ |
加热元件 | 钼丝(Φ2mm,之字形结构) |
隔热结构 | 六层金属屏(内3层钼板,外3层不锈钢) |
控温方式 | 钨铼热电偶 + PLC程序控制 |
五、结构特点
炉体结构
立式或卧式、升降式,双层水冷结构,内层不锈钢抛光,外层碳钢防锈,炉壳温度≤50℃。
加热系统
钼丝绕制成圆形结构,水冷电极引出,热膨胀自由伸缩,避免应力断裂。
隔热系统
六层金属反射屏(Mo+SS),有效反射热辐射,减少热损失,升温快、能耗低。
真空系统
机械泵+扩散泵,可选配分子泵,数显真空计+PLC自动控制,抽气快、真空度高。
电控系统
程序控温仪,支持多段升温/保温/降温,具备断水、超温、过流报警及自动保护功能。
六、易损件与使用寿命
易损件 | 寿命 | 说明 |
---|---|---|
钼丝加热体 | 4~6个月 | 高温氧化变脆断裂,不可重复使用 |
金属反射屏 | 1~2年 | 高温变形、氧化减薄,可局部更换 |
水冷电极 | 1年以上 | 密封老化、漏水需定期检修 |
热电偶 | 6~12个月 | 高温脆化、信号漂移需定期校准 |
注:寿命与使用温度、气氛纯度、操作规范密切相关。优化设计+规范操作可延长寿命至半年以上
使用注意事项(含加热元件)
升温前必须抽真空至≤10Pa以下,再通入保护气体(如H2、N2),严禁在氧化气氛下加热。
钼丝严禁受潮,使用前需干燥处理,防止高温氢脆断裂。
升温速率≤10℃/min,避免热应力导致钼丝断裂或屏变形。
定期检查水冷系统,防止断水导致电极或炉壳过热。
严禁超温运行(>1600℃),钼丝接近熔点将迅速蒸发失效。
停炉后需继续通H?至200℃以下,防止氧化。
定期清理炉内挥发物,避免污染反射屏或造成短路。
更换钼丝时需整体更换,避免新旧混用导致电流不均。
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