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实验室用小型硫化物CVD系统：带预热的滑动管式炉

文章出处：洛阳智能高温电阻炉人气：0 发表时间：2024-08-24

此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。

左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调

节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好；真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃

以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。

设备组成

MTF50-1200蒸发器，MTF50-1200D双温区管式炉

带有预热系统的滑动管式炉

主要技术参数

蒸发器

电炉型号：MTF50-12-15

工作温度：室温-1000℃

最高温度：1050℃

升温速率：30℃/min，推荐升温速率：10℃/min

控温方式：智能化30段可编程控制

工作电压：AC220 V

额定功率：1000W

控温精度：±1℃

加热元件：电阻丝

加热区长度：150mm

双温区硫化炉

电炉型号：MTF50-12-300

额定功率:3KW

额定电压:AC220v 50/60 Hz

设计温度1200℃（1 hour）

持续工作温度：1100℃

升温速率：≤50℃/min

炉管尺寸（mm）：

高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度（mm）：400mm

恒温区长度（mm）:150mm

控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝

配件

配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，防腐型数显真空计，三路混气系统（可选）

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