实验室用小型硫化物CVD系统：带预热的滑动管式炉
实验室用小型硫化物CVD系统：带预热的滑动管式炉
此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。
左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调
节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好；真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃
以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。
设备组成
MTF50-1200蒸发器，MTF50-1200D双温区管式炉
带有预热系统的滑动管式炉
主要技术参数
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蒸发器
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电炉型号：MTF50-12-15 工作温度：室温-1000℃ 最高温度：1050℃ 升温速率：30℃/min，推荐升温速率：10℃/min 控温方式：智能化30段可编程控制 工作电压：AC220 V 额定功率：1000W 控温精度：±1℃ 加热元件：电阻丝 加热区长度：150mm |
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双温区硫化炉 |
电炉型号：MTF50-12-300 额定功率:3KW 额定电压:AC220v 50/60 Hz 设计温度1200℃（1 hour） 持续工作温度：1100℃ 升温速率：≤50℃/min 炉管尺寸（mm）： 高纯石英管Φ50×1500mm 加热区长度（mm）：400mm 恒温区长度（mm）:150mm 控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 控温精度(℃):±1 加热元件:电阻丝 |
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配件 |
配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，防腐型数显真空计，三路混气系统（可选） |
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