小型管式pecvd系统
TF10-12PECVD小型型管式等离子化学气象沉积系统为实验室用小型管式等离子化学气象沉积系统、小型管式pecvd系统。
pecvd管式炉系统是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
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1200℃开启式管式炉技术参数 |
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石英管尺寸 |
Φ100*L1200mm |
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加热元件 |
高温电阻丝 |
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测温元件 |
N型热电偶 |
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加热区/恒温区 |
440mm/200mm |
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工作温度 |
≤1100℃ |
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控温模式 |
PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制 |
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控温精度 |
±1℃ |
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电功率 |
AC220V/50HZ/3KW |
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质量供气系统 |
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标准量程 |
50-500ml/min |
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压力表测量范围 |
-0.1Mpa～0.15Mpa |
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极限压力 |
3MPa |
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针阀 |
316不锈钢 |
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电功率 |
AC220V/50HZ/20W |
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响应时间 |
气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
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重复精度 |
±0.2% |
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真空系统参数 |
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工作电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
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功率 |
400W |
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极限真空 |
4X10-1Pa |
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进/排气口口径 |
KF25 |
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射频电源 |
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信号频率 |
13.56 MHz±0.005% |
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功率输出范围 |
5W-500W |
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供电电压 |
单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
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整机效率 |
≥70% |
该1200℃实验式用小型pecvd系统为小型pecvd设备。
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