扩散炉做什么用的？

真空扩散炉是用于半导体材料处理的工艺设备，扩散炉主要用于参杂工艺，特别在晶体硅太阳能电池PN结生成过程中起关键性的作用，对转换效率的提高起到决定性的作用。通常包括加热炉、净化台及气源组成，加热炉带有炉腔，炉口方向朝向净化台方向，在加热炉内另设计有放置硅片的石英舟。

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立式扩散炉是由洛阳西格马高温电炉根据客户需求定制的专用高温设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。真空扩散炉采用关键部件，真空扩散炉具有自动化程度高、温度均匀、控制稳定、寿命长等特点，是不错的科研及生产设备。

真空扩散炉主要技术指标：

1、外型形式：单管立式，加热；炉体和石英管可单自动升降定位

2、硅片尺寸：156*156方片/准方片

3、工作温度范围：400-1200℃

4、恒温区精度：±0.5℃/300mm

5、恒温区长度：≥300mm，单次可装载10片156*156方形硅片，背靠背装片模式，配石英舟

6、扩散方式：设备配置真空系统，支持负压扩散方式

7、气路系统：三路气体系统，采用MKS质量流量计、气动阀、等部件

8、温度控制系统：PLC+触摸屏可编程控制方式，自动加手动可方便切换，温控系统采用高精度温控仪，温度、流按工艺自动调节

9、 报警及保护：超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护

10、尾气处理：设备配备尾气处理系统，采用溶液吸收发吸收尾气中的有害成分

11、冷却系统：设备配有冷水系统，用于保护密封装置及冷却加热器外壳

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