立式真空水淬炉 产品描述： 立式真空水淬炉主要用于航空航天行业中的钛合金固溶处理，如TC4、TC16、TC18、TC21等材料，仪表弹性元件中的铍青铜固溶处理、航天传感器中的镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等精密合金固溶处理，核能领域中17-4PH、410等不锈钢的固溶处理等。 应用范围： 钛合金固溶处理（如TC4、TC16等）、镍基、钴基高弹性合金3J1、3J21和镍基恒弹性合金3J53等

立式真空水淬炉技术特征

炉体是立式双室结构，依据实际状况可选择一体式结构或分体式结构；

工件承载方式：承载式，相比其它吊柜式结构更安全；

加热室采用钼屏结构；钼加热带采用背绝缘技术；

全过程不需要惰性气体参与，Ar气消耗量为零；

配置一个装料室，可实现连续化生产；

炉胆经模块化化设计，炉温均匀性好；

垂直升降料车构成的淬火机构，相比卧式传动淬火机构转移时间更短；

专有技术，无须充入其它气体压制水蒸气，彻底防治水蒸气进入加热室并杜绝真空泵组污染；

淬火配置制冷机，水温可达5℃水淬效果更好；

并且具有可扩展性，提高生产效率；

水蒸气对加热室和真空机组零污染。

立式真空水淬炉产品规格

参数\型号	VVWQ-3030D	VVWQ-4040D	VVWQ-5050D	VVWQ-6060D	VVWQ-8060D
有效热区 D×H（mm）	300×300	400×400	500×500	600×600	800×600
装载重量（Kg）	50	75	150	200	300
加热功率（Kw）	60	90	120	150	210
额定温度（℃）	1350	1350	1350	1350	1350
温度均匀性（℃）	±5	±5	±5	±5	±5
真空度（Pa）	4×10-3/6×10-4	4×10-3/6×10-4	4×10-3/6×10-4	4×10-3/6×10-4	4×10-3/6×10-4
压升率（Pa/h）	≤0.26	≤0.26	≤0.26	≤0.26	≤0.26
	≤0.67	≤0.67	≤0.67	≤0.67	≤0.67
移送时间（S）	≤6	≤6	≤6	≤6	≤6
淬火介质	纯净水	纯净水	纯净水	纯净水	纯净水

以上参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。

立式真空水淬炉配置选择

双室垂直结构形式：整体式、加热室移动式、水槽移动式

炉胆：钼加热元件与全金属隔热屏合成结构

真空泵组和真空计： 、高品质国产

PLC：西门子、欧姆龙、三菱

控温仪表：日本岛电、欧陆、霍尼韦尔

热电偶：K型分度号、N型分度号、S型分度号

记录仪：有纸记录仪、无纸记录仪

人机界面：模拟屏、计算机触摸屏

电器元件：高品质国产、施耐德、西门子