主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,额定温度可以达1700℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
技术参数
额定功率 |
KW |
4 |
额定电压 |
V |
AC208-240V50/60Hz |
额定温度 |
℃ |
1700(1hour) |
持续工作温度 |
℃ |
500-1600℃ |
推荐升温速率 |
℃/min |
≤10℃/min |
炉管尺寸 |
mm |
高纯度刚玉管(ø60、ø80、ø100)X1000mm可选 |
加热区长度 |
mm |
300 |
恒温区长度 |
mm |
150 |
控温方式 |
模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能 |
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触摸屏尺寸 |
7寸 |
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控温精度 |
℃ |
±1 |
加热元件 |
4根U型硅钼加热棒(国产和两种可选,具体请致电销售部) |
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法兰 |
卡箍法兰或折页法兰也可按要求定制 |
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标准配置 |
高纯刚玉管1根,氧化铝管堵2只,不锈钢密封法兰1套,硅胶密封圈2套,高温手套1副,坩埚钩1支 |
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认证标准 |
CE |
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尺寸(长*宽*高) |
mm |
550*470*1755 |
净重 |
Kg |
155 |
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