主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,额定温度可以达1700℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
技术参数
额定功率 |
5.2KW |
额定电压 |
AC220V |
额定温度 |
1600℃ |
工作温度 |
≦1500℃ |
推荐升温速率 |
10℃/min |
炉管尺寸 |
外径φ100×长度900mm |
加热区高度 |
300mm |
热电偶 |
B型热电偶 |
测温元件 |
雷泰红外枪 |
控温方式 |
模糊PID控制和自动整定调节,智能化30段可编程控制 |
控温精度 |
±1℃ |
加热元件 |
A4硅钼棒(Φ6*280*220*30) 数量:4根 |
密封系统 |
水冷卡箍法兰组件 |
炉体尺寸 |
长550mm×宽550mm×1650mm |
设备净重 |
145KG |
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