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1200℃真空CVD管式炉
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1200℃真空CVD管式炉\1200度滑式高温真空炉CVD系统

  • 电炉类型:高温电炉
  • 电炉名称:1200℃真空CVD管式炉\1200度滑式高温真空炉CVD系统
  • 电炉类型:管式炉
  • 电炉品牌:西格马1200℃真空CVD管式炉
  • 电炉规格:
  • 电炉温度:
  • 厂家电话:

1200℃真空CVD管式炉是由:真空管式炉、气体流量计、真空泵三部分构成。真空CVD管式炉 采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体表面温度小于55℃ 。炉膛表面涂有1750℃氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度 。真空密封系统 由两个不锈钢密封法兰,极限真空度≤10-2 Pa or 10-4 Pa。

1200℃真空CVD管式炉

1200℃真空CVD管式炉有四路供气系统 可以用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制系统安装在移动架上,管式炉可以放在上面,气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。

1200度滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉、混气系统、真空及压力系统等组成。温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。 1200管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、节能等点。通过滑动炉体来实现快速的升降温;配置不同的真空系统来达到不错的的真空度。

真空CVD管式炉应用范围:

真空CVD管式炉高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小,进行小试,中试,批量生产。

真空CVD管式炉可用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。该系统技术成熟、质量可靠;该系统是材料实验室必备的不错的设备之一。 

真空CVD管式炉结构特点:

加热元件 :质掺钼铁铬铝合金加热丝环形加热,温场均匀,能耗低升温速率建议:10℃/Min Max:20℃/Min

测温元件 :K型热电偶

炉膛保温材料 :1500型高纯氧化铝微晶体纤维,保温性能好

 

开门方式 :上开式

 

壳体结构 :双层,壳体间风扇制冷,可使炉体表面快速降温。

 

节能效果 :保温时仅需40%功率

 

控制模式 :智能PID调节、模糊控制、自整定功能

 

温度曲线 :0段可编程控制,可设置30段升降温程序

 

 

随机配件

防护手套1双;坩埚钳1把;刚玉舟1只;石英管;炉塞;炉勾;6号内六角(法兰专用); 法兰一套;配套气管;高温密封圈8个;产品说明书1份;仪表说明书1份;保修证书1份。

真空CVD管式炉可选配质量流量控制器跟浮子流量计。

质量流量控制器:
工作电压:185~245V/50Hz
额定输出功率:18W
控制范围:
控制器1:1~199 SCCM 
控制器2:1~499 SCCM 
工作温度:5~45 ?C
额定压力:3x106 Pa
准确度:±1% FS 
控制阀及管线连接等
浮子流量计:流量速率在25to250ml/min 

管式炉技术参数产品型号

产品型号 SGM1200-60 加热区尺寸 440mm恒温150mm
极限温度 1200℃ 工作温度 ≤1100℃
石英管 60*54*1000mm 加热温区数 1
表面温度 <60℃ 控温精度 ±1℃
设备功率 4 KW 工作电压 单相220V

 

 

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