名称

900℃双温区RTP炉

基本参数

工作温度：*高900℃（<10min）；

800℃（<30min）；600℃（长期）

加热区：380mm双温区：190mm+190mm

热偶：K型热偶, 紧贴在放样品的AlN片下

电源：AC380V, 50Hz 两相功率：24KW

炉体结构

·双层壳体结构，并带有风冷系统，使壳体表面温度低于60℃

·采用短波红外灯管对样品加热，可达到快速加热的效果

·样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，允许样品在真空或气氛保护环境下移动,以达到快速加热和快速降温的效果

·设有开门断电功能,提高实验安全性

加热元件

16根红外灯管(每个灯管功率1.5KW）

升温降温速率

*快升温速率：

室温~800℃： 50 ℃/s，800℃~900℃： 10℃/s

*快降温速率：

60℃/min (在 200 mtorr下),117℃/min (在一个大气压下)

*慢降温速率10℃/min

温控系统

·包含一款808P型温度控制器

·PID自动控温系统

·智能化30段可编程控制

·控温精度：±1℃

·默认DB9 PC通信连接端口

可选购电脑温度控制软件(用于YD518P系列控制器)用于控制升温曲线和导出数据。

石英管和样品架

·石英管尺寸: 110 O.D x 106 I.D x740mm

·AlN 具有很高的热导率，所以在样品放置的区域有很好的温度均匀性±5℃

·可选：3"O.D的石墨衬底替代AlN陶瓷片

·可选：将含坩埚盖盖规格为87 O.D×71 I.D×12 H mm的石墨坩埚设计三个坩埚架，则可被改造成一个RTE,CSS或HPCVD炉，另外石墨坩埚表面涂有SiC涂层。

·样品架也可从法兰上拆卸，与其他类型RTP炉配套使用。

·一片3" AlN 片放在样品架上用来放置需要退火的样品。

·3" 的样品架固定在滑动法兰上，材质为石英材料。

真空法兰

·KF-25D型不锈钢高真空法兰上配有两个高温硅胶O形圈并安装有针阀和水冷套。

·在冷却水开启的情况下设备可长期在≦600℃温度下工作。

·循环水流量:0.5 m3/h

·法兰上安装有滑轨可直接推拉操作，取放样品简单便捷，同时也可满足其他特殊工艺的要求。

·可插入式的铠装热电偶，使测得样品温度更加。

真空系统（可选）

·用机械泵真空度达 50 mtorr

·用分子泵真空度可达 10E-4 torr

真空表

此设备标配一个机械压力表

可选配其他数字真空计，具体请点击下方图片或咨询销售部

尺寸

1000（L）×540（W）×800（H） mm

净重

180Kg

保修期

一年保修，终身技术支持。

可选

·您可以将RTP炉，真空泵及混气系统搭建组合为真空炉或CVD系统

·为带气氛保护下得到较快的降温速度 <10℃/s, 你可以选择带滑轨的 RTP 炉

·你可选购压力控制模块来监控并保持工作腔室压力稳定。

·标配流量计量程范围：16-160 ml/min，您可以在我公司选购其他流量计

使用注意事项

·炉管内气压不可高于0.02MPa

·由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加安全。

·当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态

·进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

·石英管的长时间使用温度＜1100℃

·对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）

·这款炉子也可以被改造成RTE,CSS或HPCVD炉使用，同时石墨坩埚被碳化硅涂层(点击下图了解如何自行搭建RTE炉)

·在进行化学气相沉积后，石墨烯可从金属催化剂转移到另一个基片衬底上，此法可被广泛应用制备二维材料。通过CVD法生长的石墨烯，表面平整度高且无残渣。

免责声明

本本电炉介绍内容（包括电炉图片、电炉描述、技术参数等）仅供参考。可能由于更新不及时和网本不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议，或者想了解电炉详细信息，请与本公司销售人员联系。