PECVD
西格马SGMPECVD系统(PE-12100C)
PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。
该型号PECVD为西格马SGM设计新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的点,在PECVD前端加入了气体预热区,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了西格马SGM自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。
1、气体预热——增加前端气体预热区,沉积速度更快,成膜效果更好;
2、AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制——西格马SGMAIO控制系统;
3、管内压力自动平衡——管内压力实时监测,自动平衡管内压力。
4、智能气路通断——每路气体均可定时通断,省时省力;
5、射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;
6、炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离;
7.、整机结构融为一体——移动方便,避免分散组装的困扰。
加热炉部分 |
||
1 |
炉膛模式 |
开启式炉膛 |
2 |
显示模式 |
7英寸触摸屏 |
3 |
极限温度 |
1400℃ |
4 |
工作温度 |
≤1350℃ |
5 |
升温速率 |
建议10℃/MinMax:30℃/Min |
6 |
加热温区 |
3温区 |
7 |
单温区长度 |
150mm |
8 |
炉管规格 |
100*2000mm |
9 |
控温精度 |
±1℃ |
10 |
密封方式 |
快速法兰密封 |
11 |
温度曲线 |
30段"时间—温度曲线"任意可设 |
12 |
预存曲线 |
可预存15条温度曲线 |
13 |
超温报警 |
有 |
14 |
过流保护 |
有 |
15 |
断偶提示 |
有 |
16 |
测温元件 |
s型热电偶 |
17 |
炉膛材料 |
氧化铝纤维 |
18 |
外形尺寸 |
2600*860*1400MM |
射频电源功率 |
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1 |
信号频率 |
13.56MHz±0.005% |
2 |
功率输出范围 |
5W-300W |
3 |
功率稳定度 |
±0.1% |
4 |
谐波分量 |
≤-50dbc |
5 |
供电电压 |
单相交流(187V-253V)频率50/60HZ |
6 |
整机效率 |
>=70% |
7 |
功率因素 |
>=90% |
8 |
冷却方式 |
强制风冷 |
9 |
真空部分 |
|
10 |
工作电电压 |
220V±10%50~60HZ |
11 |
功率 |
500W |
12 |
抽气速率 |
4Ls |
13 |
进气口口径 |
KF25 |
14 |
排气口口径 |
KF25 |
15 |
转速 |
1450rpm |
16 |
噪音 |
55dB |
17 |
极限真空 |
4X10-2Pa |
气路系统 |
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1 |
1,2气路采用DB07K系列 |
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准确度:±1.5% |
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重复精度:±0.2% |
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响应时间:气特性:1~4Sec,电特性:10Sec |
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工作压差范围:0.1~0.5MPa |
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2 |
3路采用高精度CS200系列 |
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准确度:±0.35%FS±1.0%SP |
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线性:±0.5%FS |
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重复精度:±0.2%FS |
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响应时间:气特性:1Sec |
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整机系统特色 |
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1 |
正压测量 |
-100Kpa---100Kpa |
2 |
真空测量 |
10-2Pa~100Kpa(支持Ar测量) |
3 |
正压保护 |
支持 |
4 |
压力恒定 |
支持 |
5 |
智能气路 |
支持 |
6 |
气路定时 |
支持 |
7 |
射频工作时间设定 |
支持 |
8 |
移动速度调节 |
支持 |
9 |
系统真空度 |
4.8×10-3Pa |
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多点,比如成膜质量好等。
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