真空电阻炉用于在1800℃以下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺,也可用...
这款1700℃管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程...
这款管式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温...
单温区快速加热、冷却滑动管式炉这款管式炉炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷...
1200℃开启式管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,可控...
这款坩埚电阻箱式炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控...
该STR下拉式电阻炉外观小巧,辐射小,以质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇...
该STR下拉式电阻炉外观小巧,辐射小,以质硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇...
这款上拉式箱式炉以铁烙铝电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电30段程序控温...
这款箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相...
这款箱式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、...
这款箱式炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电30段程序控温系统,...
该STR箱式电阻炉外观小巧,以质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电30段程...
该STR箱式电阻炉外观小巧,以质硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电30段程...
这款Mini箱式炉以铁烙铝电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电30段程序控温系...
该STR管式炉外观小巧,以质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,...
该STR管式炉外观小巧,以质电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,...
这款管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温...
这款管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温...
这款管式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温...