真空渗碳炉是在低压真空状态下,通过多次强渗+扩散过程,以达到零件渗层深度要求的工艺过程,其控制方法为“饱和值调整法”。即在强渗期使奥氏体固溶碳饱和,在扩散期固溶的碳向内部扩散到目标的要求值,通过调整渗碳、扩散时间比,达到控制表面碳浓度和渗碳层深度的目的。其点是:
1.无内氧化,能显著提高零件表面疲劳性能。
2.处理后畸变小。
3.计算机控制,渗碳精度高。
4.处理后产品表面呈光亮状,可不经清洗、喷丸工序。
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