1200℃双管滑道式CVD系统

1200℃双管滑道式CVD系统

该1200℃双管滑道式CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。炉底部装有滑轨，可通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。该cvd高温炉广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

产品名称：

1200℃双管滑道式CVD系统

第一部分： 1200度滑道双管双温区管式炉

产品型号：

1200度滑道管式炉

炉管尺寸：

双石英管

外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm

内管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm

加热区：220+220mm

供电电源：230V，单相，50HZ

功率：4.0 kw

加热元件：电阻丝

升温速率：0-20°C/min

热电偶： K型

第二部分： 水冷系统

法兰：

1.水冷机 CW-3000

2.水冷，密封双管的真空法兰：允许反应气体通过两管之间（10mm间隙）发生反应，冷却气体直接通入内管.

第三部分  真空系统

真空系统

1. 防腐数显真空计

2. VRD-16旋片泵，抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口，波纹管和箱体

第四部分  混气系统

质量流量计量程：

MFC 1: 0~10 sccm

MFC 2: 0~200 sccm

MFC 3: 0~10 slm

MFC 3: 0~10 slm