低真空CVD石墨烯生长系统:STR-TF60-12小型管式CVD-洛阳智能高温电阻炉

低真空CVD石墨烯生长系统:STR-TF60-12小型管式CVD

  • 别称:小型CVD
  • 类型:新闻中心
  • 温度:1200
  • 规格:

产品详情

STR-TF60-12小型管式CVD为低真空CVD石墨烯生长系统、实验用小型CVD系统,该STR-TF60-12小型管式CVD是由STR-TF60-12高温管式炉、3路质量流量控制系和真空系统所组成。有小型双温区管式炉CVD系统、滑膛式管式炉CVD系统

STR-TF60-12小型管式CVD可应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。主要用于SiO2, Si3N4 沉积。

CVD(Chemical Vapor Deposition, 化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。

1.STR-TF60-12高温管式炉

电炉名称

1200度高温管式

电炉型号

STR-TF60-12

设计温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

石英管尺寸

Φ60,可选φ60、Φ80、φ100*1000mm

炉膛材料

氧化铝、高温纤维制品

控温方式

30段可编程控温,PID参数自整定。

加热元件

高温电阻丝

加热长度

440mm

恒温区长度

200mm

测温元件

K型热电偶

控温精度

±1℃

供电电源

单相,220V,50Hz

2、三路质子流量控制系统

连接头类型

双卡套不锈钢接头

标准量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm(可根据用户要求定制)

准确度

±1.5%F.S

线性

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S

响应时间

气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围

0.1~0.5 MPa

设计压力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

显示

4位数字显示

工作环境温度

5~45高纯气体

压力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止阀

Φ6

内外双抛不锈钢管

Φ6

3、低真空机组

空气相对湿度

≤85%

工作环境

5℃~40℃

工作电电压

220V±10%  50~60HZ

功率

1KW

抽气速率

10m³/h

极限真空

5X10-1Pa

工作压力范围

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐压值

0.03MPa

容油量

1.1L

进气口口径

KF25

排气口口径

KF25

噪音

50dB

连接方式

采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连


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