PECVD系统设备配件：RF射频电源
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产品详情
PECVD系统由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。该PECVD系统具有薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等点。
PECVD系统主要使用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
RF射频电源
射频收发核心电路射频即Radio Frequency，通常缩写为RF。表示可以辐射到空间的电磁频率，频率范围从300KHz～30GHz之间。射频电源(RF generator)是用来产生射频电功率的电源。
RF射频电源主要技术参数：
| 设备名称 |
RF射频电源 |
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功率输出范围 |
0-500W |
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额定反射功率 |
200W |
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工作频率 |
射频：13.56MHZ±0.005% |
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功率稳定度 |
+/-0.1% |
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谐波分量 |
≤-50dbc |
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射频区域宽度 |
0-600mm 可调 |
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匹配方式 |
自动 |
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冷却方式 |
分冷 |
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噪声 |
<50dB |
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射频接口 |
50Ω N-type |
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输入电源 |
208-240V 50/60HZ
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PECVD系统设备RF射频电源厂家
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