氮化硅烧结炉Silicon carbide high temperature sintering furnace
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氮化硅高温烧结炉Silicon carbide high temperature sintering furnace
氮化硅高温烧结炉主要用于反应烧结碳化硅、氮化硅结合碳化硅的真空烧结行业。氮化硅高温烧结炉可应用于军工、卫生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、机械、汽车等领域。
氮化硅烧结炉特点：
1、采用感应加热方式；
2、配有真空烧结和分压烧结功能；
3、料车可横向移动；
4、双级压力保护；
5、真空系统配置过滤除尘装置；
6、充放气系统可供用户精度调节气体流量；
氮化硅烧结炉常规规格参数：
| 型号 |
有效加热区 |
设计温度 （℃） |
极限真空度 （Pa） |
均温性 （℃） |
压升率 （Pa/h） |
加热功率 (kw) |
装料量 |
|
VIS-225 |
200*200*500 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
90 |
80 |
|
VIS-337 |
300*300*700 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
120 |
120 |
|
VIS-449 |
400*400*900 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
150 |
200 |
|
VIS-6612 |
600*600*1200 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
210 |
300 |
|
VIS-6618 |
600*600*1800 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
300 |
600 |
|
VIS-6624 |
600*600*2400 |
2400 |
0、3 |
±5 |
≤0、4 |
360 |
800 |
|
VIS-8830 |
800*800*3000 |
2400 |
0、3 |
±10 |
≤0、4 |
540 |
1200 |
|
VIS-8840 |
800*800*4000 |
2400 |
0、3 |
±10 |
≤0、4 |
720 |
1500 |
（可根据用户需求尺寸定制）
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