RTP-1200度小型快速退火炉(RTP/RTA)为洛阳赛特瑞高温电炉生产的快速退火炉。 快速退火炉一般都是以碘钨灯管为发热元件,升温速度极快,采用S型热电偶测温并采用国际的模糊PID控制,具有很高的控温精度〈±5℃〉,快速退火炉 具有真空装置,可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。
退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢氮混合气等);真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);
小型快速退火炉采用红外卤素灯快速加热。卤素灯与碘钨灯区别?碘钨灯是卤素灯的一种
| 电炉名称 | 单位 | 型号 | |||
| RT4-180-9 | RT4-220-9 | RT4-300-9 | |||
| 额定功率 | KW | 180 | 220 | 300 | |
| 额定电压 | V | 380 | |||
| 工作温度 | ℃ | 950 | |||
|
炉膛 尺寸 |
长 | mm | 2100 | 2500 | 3000 |
| 宽 | mm | 1050 | 1300 | 1500 | |
| 高 | mm | 750 | 900 | 1200 | |
| 加热元件接法 | Y | ||||
| 空炉升温时间 | h | 2-3 | |||
| 控温精度 | ℃ | ±1 | |||
| 大装载量 | Kg | 5000 | 7000 | 11000 | |
| 重量 | Kg | 5600 | 8500 | 920 | |
可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;
温控精度高;
无须配置冷水机;
无须使用三相电,普通实验室单相电即可使用;
紧凑的台式设计;
仪器操作方便,样片装取容易;
适合高校或研究所科研使用;
价格合理,高性价比;
应用领域:
快速热退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
扩散 (Diffusion);
硅化 (Silicidation);
化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
离子注入后退火 (Implant Annealing);
电极合金化 (Contact Alloying);
晶体化和致密化 (Crystallization and Densification);
合金熔点分析;
薄膜沉积;
等等…
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