主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,额定温度可以达1600℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
技术参数
| 额定功率 | 4KW | 
| 额定电压 | AC 208-240V 50/60 Hz | 
| 额定温度 | 1600℃(1 hour) | 
| 持续工作温度 | 500-1550℃ | 
| 推荐升温速率 | ≤10℃/min | 
| 炉管尺寸 | 刚玉管ø100*1200mm | 
| 温区数量 | 两个立温区 | 
| 加热区长度 | 760mm | 
| 恒温区长度 | 400mm | 
| 控温方式 | 模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和 断偶报警功能 
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| 触摸屏尺寸 | 7寸 | 
| 控温精度 | ±1℃ | 
| 加热元件 | 8根U型 硅钼加热棒 | 
| 法兰 | 折页法兰 | 
| 标准配置 | 刚玉管1根,氧化铝管堵2只,不锈钢密封法兰1套,硅胶密封圈2 套,高温手套1副,坩埚钩1支 | 
| 认证标准 | CE | 
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