主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,额定温度可以达1700℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
技术参数
| 额定功率 | KW | 4 | 
| 额定电压 | V | AC208-240V50/60Hz | 
| 额定温度 | ℃ | 1700(1hour) | 
| 持续工作温度 | ℃ | 500-1600℃ | 
| 推荐升温速率 | ℃/min | ≤10℃/min | 
| 炉管尺寸 | mm | 高纯度刚玉管(ø60、ø80、ø100)X1000mm可选 | 
| 加热区长度 | mm | 300 | 
| 恒温区长度 | mm | 150 | 
| 控温方式 | 模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能 | |
| 触摸屏尺寸 | 7寸 | |
| 控温精度 | ℃ | ±1 | 
| 加热元件 | 4根U型硅钼加热棒(国产和两种可选,具体请致电销售部) | |
| 法兰 | 卡箍法兰或折页法兰也可按要求定制 | |
| 标准配置 | 高纯刚玉管1根,氧化铝管堵2只,不锈钢密封法兰1套,硅胶密封圈2套,高温手套1副,坩埚钩1支 | |
| 认证标准 | CE | |
| 尺寸(长*宽*高) | mm | 550*470*1755 | 
| 净重 | Kg | 155 | 
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