主要特点
VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,额定温度可以达1700℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
技术参数
| 额定功率 | 5.2KW | 
| 额定电压 | AC220V | 
| 额定温度 | 1600℃ | 
| 工作温度 | ≦1500℃ | 
| 推荐升温速率 | 10℃/min | 
| 炉管尺寸 | 外径φ100×长度900mm | 
| 加热区高度 | 300mm | 
| 热电偶 | B型热电偶 | 
| 测温元件 | 雷泰红外枪 | 
| 控温方式 | 模糊PID控制和自动整定调节,智能化30段可编程控制 | 
| 控温精度 | ±1℃ | 
| 加热元件 | A4硅钼棒(Φ6*280*220*30) 数量:4根 | 
| 密封系统 | 水冷卡箍法兰组件 | 
| 炉体尺寸 | 长550mm×宽550mm×1650mm | 
| 设备净重 | 145KG | 
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