1200℃双温区CVD系统为实验室用多温区小型CVD生长系统,小型CVD生长系统有多温区管式炉、真空系统、混气系统组成。
产品用途:
此款小型CVD生长系统可用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
产品组成:
此款小型CVD系统配置:
1、1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区、三温区)
2、多路质量流量控制系统
3、真空系统(可选配中真空或高真空)
结构特点:
1、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2、气路快速连接法兰结构,提高操作便捷性。
3、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。
主要技术参数:
| 系统名称 | 1200℃单/双温区CVD系统 | |
| 系统型号 | STR CVD60-12II-3Z/G | STR CVD80-12III-3Z/G | 
| 最高温度 | 1200℃ | |
| 加热区长度 | 420mm | 600mm | 
| 恒温区长度 | 280mm | 390mm | 
| 温区 | 双温区 | 三温区 | 
| 石英管管径 | Φ60(可选Φ80mm) | Φ80(可选Φ100mm) | 
| 额定功率 | 3.2Kw | 4.8Kw | 
| 额定电压 | 220V | |
| 温度控制 | 智能程序控温系统,50段程序控温; | |
| 控制精度 | ±1℃ | |
| 炉管最高工作温度 | <1200℃ | |
| 气路法兰 | 密封法兰与管件连接采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封, 在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效。 | |
| 气体控制方式 | 质量流量计 | |
| 气路数量 | 3路(可根据具体需要选配气路数量) | |
| 流量范围 | 0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定 | |
| 精度 | ±1%F.S | |
| 响应时间 | ≤4sec | |
| 工作温度 | 5-45℃ | |
| 工作压力 | 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力) | |
| 系统连接方式 | 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 | |
| 规格 | 高真空 | |
| 系统真空范围 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
| 真空泵 | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa, 抽气速度1200L/S, 额定电压220V 功率2KW | 真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa, 抽气速度1600L/S, 额定电压220V 功率2KW | 
| 炉体外形尺寸 | 350×600×560mm | 500×800×610mm | 
| 系统外形尺寸 | 530x1440x750mm(不含高真空) | |
| 系统总重量 | 330kg | |
	
                            联系1200℃双温区CVD系统厂家电话,沟通1200℃双温区CVD系统详细参数和1200℃双温区CVD系统价格
                          
版权所有 洛阳智能高温电阻炉 备案号: 豫备 保留所有权利.

