PECVD系统由管式炉,石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。该PECVD系统具有薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等点。
PECVD系统主要使用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
RF射频电源
射频收发核心电路射频即Radio Frequency,通常缩写为RF。表示可以辐射到空间的电磁频率,频率范围从300KHz~30GHz之间。射频电源(RF generator)是用来产生射频电功率的电源。
	
| 设备名称 | RF射频电源 | 
| 功率输出范围 | 0-500W | 
| 额定反射功率 | 200W | 
| 工作频率 | 射频:13.56MHZ±0.005% | 
| 功率稳定度 | +/-0.1% | 
| 谐波分量 | ≤-50dbc | 
| 射频区域宽度 | 0-600mm 可调 | 
| 匹配方式 | 自动 | 
| 冷却方式 | 分冷 | 
| 噪声 | <50dB | 
| 射频接口 | 50Ω N-type | 
| 输入电源 | 208-240V 50/60HZ 
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PECVD系统设备RF射频电源厂家
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